半导体干法刻蚀技术原子层工艺（介绍特定的刻蚀应用，如栅极刻蚀、接触孔刻蚀、3D NAND通道孔刻蚀，作者是全球第一大刻蚀设备提供商泛林集团副总裁编写）

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半导体干法刻蚀技术原子层工艺（介绍特定的刻蚀应用，如栅极刻蚀、接触孔刻蚀、3D NAND通道孔刻蚀，作者是全球第一大刻蚀设备提供商泛林集团副总裁编写）

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刘*哲

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